duv和euv技术区别 |
| 更新时间: 2021-11-22 19:27:41 |
DUV是深紫外线(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是极深紫外线(Extreme Ultraviolet Lithography)。从制程范围来看,DUV基本上只能做到25nm,Intel凭借双工作台的模式做到了10nm,但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造,并且还可以向5nm、3nm继续延伸。 关键词: duv euv 技术 区别 |
duv和euv技术区别相关经验
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