离子镀和离子溅射沉积的新发展及其应用 表面涂层技术有哪些

离子镀和离子溅射沉积的新发展及其应用在现代材料科学领域占据着举足轻重的地位，可以说这两种技术不仅拓宽了材料表面的改性途径，还极大地促进了新型功能材料的研发与应用，并且近年来，离子镀技术取得了显著的新发展，那么大家知道表面涂层技术有哪些吗？下面就去了解了解吧！

离子镀和离子溅射沉积的新发展及其应用

近十多年来，表面涂层技术在离子镀和离子溅射沉积的基础上向两个方向发展。

(1)在离子镀和离子溅射沉积中引入化学过程，这就是在工作气体中掺入适当的反应气体2、N2、CH4等，经过等离子体的激活电离后成为活泼的氧离子、氮离子、碳离子等，和用来沉积的金属离子起化学反应后生成化合物(如Al2O3、TiN、TiC等)沉积层。

(2)另一个发展方向就是磁控离子溅射和离子束溅射，用以提高沉积速度和表面涂层纯度。磁控离子溅射是在溅射靶附近安装一个垂直于电场的磁场，用以提高溅射靶附近的等离子体密度，从而提高沉积速度。离子束溅射沉积是用经过聚焦的离子束直接打到溅射靶上，使靶材料元素发生溅射而沉积到工件的表面。整个过程是在10-5～10-6乇的真空度下进行

。以上两点都有利于减少表面涂层的杂质。因为上面几种溅射沉积方法有可能将一些靶材料以外的杂质也一起沉积到表面涂层中去，而且工作真空度也比离子束溅射沉积低2～3个数量级，因此离子束溅射沉积可以最大限度地减少杂质进入表面涂层的可能性。

表面涂层技术有哪些

表面涂覆技术：在材料基质表面涂覆一种膜层，以改善材料表面性能的技术。

喷漆、电镀、热喷涂、气相沉积技术：这些技术是表面涂覆技术的具体应用案例。

物理气相沉积技术：通过调节材料的物理造型，对材料进行表面涂层处理，常用的涂层材料有金属、陶瓷等。

化学气相沉积技术：通过对材料进行化学反应，形成均匀的气相反应物沉积到材料表面，生成衍生物质。

电化学沉积技术：通过利用电化学反应将电解液中的材料沉积到电极表面的技术。

激光熔覆：在基体表面以不同的添料方式放置被选择的涂覆材料，并利用高能量密度激光束使涂覆层与基材表面一起快速熔化的方法。

真空熔烧：在一定真空条件下，将一定的热能作用于基体金属的涂覆层表面上，使涂覆层材料粉末熔融，并浸润基体表面。

交联聚合物涂层：基于低碳绿色的理念开发出无催化剂参与的聚合模式，应用于功能高分子膜的制备。

这些技术各有其特点和适用范围，广泛应用于提高材料的硬度、强度、耐蚀性等性能，以及在电子、机械制造、材料加工等领域的应用。

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